Редактирование: Моделирование поверхностной диффузии кремния методом молекулярной динамики

Перейти к: навигация, поиск

Внимание! Вы не авторизовались на сайте. Ваш IP-адрес будет публично видимым, если вы будете вносить любые правки. Если вы войдёте или создадите учётную запись, правки вместо этого будут связаны с вашим именем пользователя, а также у вас появятся другие преимущества.

Правка может быть отменена. Пожалуйста, просмотрите сравнение версий, чтобы убедиться, что это именно те изменения, которые вас интересуют, и нажмите «Записать страницу», чтобы изменения вступили в силу.
Текущая версия Ваш текст
Строка 35: Строка 35:
 
рассматриваемом кристалле. В описываемой компьютерной модели
 
рассматриваемом кристалле. В описываемой компьютерной модели
 
используется [[Потенциалы Терсоффа, Бреннера|эмпирический потенциал взаимодействия Терсофа]] для
 
используется [[Потенциалы Терсоффа, Бреннера|эмпирический потенциал взаимодействия Терсофа]] для
атомов кремния <ref name="Tersoff1"/> <ref name="Tersoff2"/>. Потенциал Терсоффа относится
+
атомов кремния [1], [2]. Потенциал Терсоффа относится к многочастичным
к [[Многочастичные силовые потенциалы взаимодействия | многочастичным потенциалам]]
+
потенциалам [3]. Так же, как вышеупомянутые потенциалы, многочастичные
<ref name="Erkoc"/>. Так же, как вышеупомянутые потенциалы, многочастичные
 
 
потенциалы представляются в виде суммы слагаемых по всем парам
 
потенциалы представляются в виде суммы слагаемых по всем парам
 
частиц, но каждое слагаемое зависит и от положения других частиц.
 
частиц, но каждое слагаемое зависит и от положения других частиц.
Строка 51: Строка 50:
  
 
<math>
 
<math>
     \underline{v} (t + \tau / 2) = \underline{v} (t - \tau / 2) + \underline{w} (t) \tau
+
     \bf{\underline{v}} (t + \tau / 2) = \underline{v} (t - \tau / 2) + \underline{w} (t) \tau
 
</math>
 
</math>
  
 
<math>
 
<math>
     \underline{r} (t + \tau) = \underline{r} (t) + \underline{v} (t + \tau / 2) \tau
+
     \bf{\underline{r}} (t + \tau) = \underline{r} (t) + \underline{v} (t + \tau / 2) \tau
 
</math>
 
</math>
  
где <math>\tau</math> – шаг интегрирования. Ускорение <math>\underline{w}(t)</math>
+
где <math>\tau</math> – шаг интегрирования. Ускорение <math>\bf{\underline{w}}(t)</math>
 
вычисляется через силу в тот же момент времени. В начальный
 
вычисляется через силу в тот же момент времени. В начальный
 
момент времени задается отсчетная конфигурация. Это может быть
 
момент времени задается отсчетная конфигурация. Это может быть
Строка 89: Строка 88:
 
координаты измеряются в ангстремах, единица времени составляет
 
координаты измеряются в ангстремах, единица времени составляет
  
&Aring; <math>\sqrt{\frac{m}{\mbox{eV}}} = 5.39523 \cdot 10^{-14}</math> с
+
<math>\mbox{\AA} \sqrt{\frac{m}{\mbox{eV}}} = 5.39523 \cdot 10^{-14}</math> с
  
 
где <math>m = 28.0855 \cdot 1.66054 \cdot 10^{-27}</math> кг –
 
где <math>m = 28.0855 \cdot 1.66054 \cdot 10^{-27}</math> кг –
масса атома кремния, &Aring; <math> = 10^{-10}</math> м – ангстрем,
+
масса атома кремния, <math>\mbox{\AA} = 10^{-10}</math> м – ангстрем,
 
<math>\mbox{eV} = 1.60218 \cdot 10^{-19}</math> Дж – электрон-вольт.
 
<math>\mbox{eV} = 1.60218 \cdot 10^{-19}</math> Дж – электрон-вольт.
 
Минимальный период колебаний решетки в этих единицах – величина
 
Минимальный период колебаний решетки в этих единицах – величина
Строка 182: Строка 181:
 
Ниже приведены графики изменения кинетической (1) и полной (2)
 
Ниже приведены графики изменения кинетической (1) и полной (2)
 
энергии, значения на вертикальной шкале переведены в Кельвины.
 
энергии, значения на вертикальной шкале переведены в Кельвины.
 +
Виден горизонтальный участок кривой при 1800 К, на котором,
 +
видимо, происходит плавление.
  
 
==  Свободная поверхность 1,0,0 ==
 
==  Свободная поверхность 1,0,0 ==
Строка 196: Строка 197:
 
скоростей атомам на каждом шаге интегрирования, охлаждение – с
 
скоростей атомам на каждом шаге интегрирования, охлаждение – с
 
помощью введения диссипативных внешних сил, действующих на каждый
 
помощью введения диссипативных внешних сил, действующих на каждый
атом. На рисунках изображены состояния до и после нагревания до 350 К.
+
атом. На рисунках изображены состояния до и после нагревания до 700 К.
  
 
На первом рисунке видны ряды атомов поверхности пластины,
 
На первом рисунке видны ряды атомов поверхности пластины,
Строка 223: Строка 224:
 
нагревается. На рисунке 2 видно, что адатом задержался над атомом
 
нагревается. На рисунке 2 видно, что адатом задержался над атомом
 
поверхностного бислоя, заполняя объемную решетку следующего слоя
 
поверхностного бислоя, заполняя объемную решетку следующего слоя
(т.е. в эпитаксиальном положении). При нагревании выше 150 К адатом
+
(т.е. в эпитаксиальном положении). При нагревании выше 300К адатом
 
переходит в другое положение, в котором взаимодействует с тремя
 
переходит в другое положение, в котором взаимодействует с тремя
 
атомами поверхностного бислоя. Положение адатома над поверхностью
 
атомами поверхностного бислоя. Положение адатома над поверхностью
Строка 254: Строка 255:
  
 
Ниже изображены распределения адатомов по их смещению
 
Ниже изображены распределения адатомов по их смещению
относительно начальных положений при температуре 944 К. Серии
+
относительно начальных положений при температуре 1888 К. Серии
 
1, 2, 3 диаграммы соответствуют 300, 600 и 900 единицам времени.
 
1, 2, 3 диаграммы соответствуют 300, 600 и 900 единицам времени.
  
Строка 316: Строка 317:
 
абсолютная температура, то построим эту характеристику в
 
абсолютная температура, то построим эту характеристику в
 
аррениусовых координатах, т.е. зависимость логарифма частоты
 
аррениусовых координатах, т.е. зависимость логарифма частоты
перехода, или среднего времени перехода, от <math>(500/T)</math>. В таких
+
перехода, или среднего времени перехода, от <math>(1000/T)</math>. В таких
 
координатах должна получиться прямая, из наклона которой определим
 
координатах должна получиться прямая, из наклона которой определим
 
энергию активации процесса.
 
энергию активации процесса.
Строка 322: Строка 323:
 
[[Файл:vtsaplin_Arren.png]]
 
[[Файл:vtsaplin_Arren.png]]
  
Поскольку в заданном диапазоне температур наклон кривой изменяется, вычислим два значения
+
Поскольку точка плавления кремния находится в рассматриваемом
энергии активации в двух диапазонах температур: больших и меньших 800 К. Энергия
+
диапазоне температур, следует вычислить два значения энергии
активации при низкой температуре составила <math>E = 2.017 \cdot 10^{-19}</math> Дж <math> =
+
активации: для кривых до и после плавления. Энергия активации до
1.259 \,\mbox{eV}</math>. Энергия активации при высокой температуре
+
плавления составила <math>E = 2.017 \cdot 10^{-19}</math> Дж <math>=
составила <math>E = 1.775 \cdot 10^{-19} </math> Дж <math> = 1.108
+
1.259 \,\mbox{eV}</math>. Энергия активации после
 +
плавления составила <math>E = 1.775 \cdot 10^{-19}</math> Дж <math>= 1.108
 
\,\mbox{eV}</math>. Погрешность вычислений этих величин равна 2 и 6
 
\,\mbox{eV}</math>. Погрешность вычислений этих величин равна 2 и 6
 
процентов соответственно. Погрешность рассчитывается как
 
процентов соответственно. Погрешность рассчитывается как
среднеквадратичное отклонение от теоретических зависимостей, параметры которых
+
среднеквадратичное отклонение от теоретических зависимостей,
вычисляются методом наименьших квадратов.
+
параметры которых вычисляются методом наименьших квадратов.
  
 
== Оценка частоты перехода адатома в смежные равновесные положения при наличии смежного адатома ==
 
== Оценка частоты перехода адатома в смежные равновесные положения при наличии смежного адатома ==
Строка 363: Строка 365:
 
| 2 адатома
 
| 2 адатома
 
|-
 
|-
| Энергия активации при T < 800 K, eV
+
| Энергия активации до плавления, eV
| <math>1.259 \pm 2 \%</math>
+
| 1.259
| <math>1.093 \pm 3 \%</math>
+
| 1.093
 
|-
 
|-
| Энергия активации при T > 800 K, eV
+
| Погрешность
| <math>1.108 \pm 7 \%</math>
+
| 2 %
| <math>1.031 \pm 15 \%</math>
+
| 3 %
 +
|-
 +
| Энергия активации после плавления, eV
 +
| 1.108
 +
| 1.031
 +
|-
 +
| Погрешность
 +
| 7 %
 +
| 15 %
 
|}
 
|}
  
 
== Литература ==
 
== Литература ==
  
<references>
+
1. J. Tersoff,
 
 
<ref name="Tersoff1">J. Tersoff,
 
 
New Empirical Model for the Structural Properties of Silicon, Phys.
 
New Empirical Model for the Structural Properties of Silicon, Phys.
Rev. Lett., Vol. 56, Num. 6 (1986)</ref>
+
Rev. Lett., Vol. 56, Num. 6 (1986)
 
 
<ref name="Tersoff2">J.Tersoff, New empirical approach for the structure and energy of covalent system
 
// Phys.Rev. B (1988) V. 37, No 12, P.6991–6999[[Медиа:tersoff-silicon(main).pdf | (2.50 Mb)]]</ref>
 
  
<ref name="Erkoc">Sakir Erkoc, Empirical many-body potential energy functions used computer simulations
+
2. J. Tersoff,
of condensed matter properties, Physics Reports 278 (1997), P. 79–105[[Медиа:Erkoc_1997.pdf | (937 Kb)]]</ref>
+
New empirical approach for the structure and energy of covalent
 +
system, Phys. Rev. B, Vol. 37, Num. 12 (15 April 1988-II)
  
</references>
+
3. Sakir Erkoc,
 +
Empirical many-body potential energy functions used in computer
 +
simulations of condensed matter properties, Physics Reports 278
 +
(1997) 79-105
Вам запрещено изменять защиту статьи. Edit Создать редактором

Обратите внимание, что все добавления и изменения текста статьи рассматриваются как выпущенные на условиях лицензии Public Domain (см. Department of Theoretical and Applied Mechanics:Авторские права). Если вы не хотите, чтобы ваши тексты свободно распространялись и редактировались любым желающим, не помещайте их сюда.
Вы также подтверждаете, что являетесь автором вносимых дополнений или скопировали их из источника, допускающего свободное распространение и изменение своего содержимого.
НЕ РАЗМЕЩАЙТЕ БЕЗ РАЗРЕШЕНИЯ МАТЕРИАЛЫ, ОХРАНЯЕМЫЕ АВТОРСКИМ ПРАВОМ!

To protect the wiki against automated edit spam, we kindly ask you to solve the following CAPTCHA:

Отменить | Справка по редактированию  (в новом окне)