Редактирование: Моделирование поверхностной диффузии кремния методом молекулярной динамики

Перейти к: навигация, поиск

Внимание! Вы не авторизовались на сайте. Ваш IP-адрес будет публично видимым, если вы будете вносить любые правки. Если вы войдёте или создадите учётную запись, правки вместо этого будут связаны с вашим именем пользователя, а также у вас появятся другие преимущества.

Правка может быть отменена. Пожалуйста, просмотрите сравнение версий, чтобы убедиться, что это именно те изменения, которые вас интересуют, и нажмите «Записать страницу», чтобы изменения вступили в силу.
Текущая версия Ваш текст
Строка 1: Строка 1:
== Введение ==
+
* Введение
 
В рассматриваемой работе описывается компьютерная модель,
 
В рассматриваемой работе описывается компьютерная модель,
 
позволяющая рассчитывать поведение кристалла кремния, имеющего
 
позволяющая рассчитывать поведение кристалла кремния, имеющего
Строка 9: Строка 9:
 
1,1,1 и моделирование диффузии атомов на поверхности 1,1,1.
 
1,1,1 и моделирование диффузии атомов на поверхности 1,1,1.
  
== Описание метода молекулярной динамики ==
+
* Описание метода молекулярной динамики
 
В основе применения метода молекулярной динамики для численных
 
В основе применения метода молекулярной динамики для численных
 
экспериментов лежит интегрирование уравнений движения частиц, –
 
экспериментов лежит интегрирование уравнений движения частиц, –
Строка 17: Строка 17:
 
рассматриваемой среды.
 
рассматриваемой среды.
  
== Задание свойств атомов кремния ==
+
* Задание свойств атомов кремния
 
Силы взаимодействия между атомами кремния в кристалле весьма
 
Силы взаимодействия между атомами кремния в кристалле весьма
 
сложны, что обусловлено структурой электронных оболочек атомов.
 
сложны, что обусловлено структурой электронных оболочек атомов.
Строка 35: Строка 35:
 
рассматриваемом кристалле. В описываемой компьютерной модели
 
рассматриваемом кристалле. В описываемой компьютерной модели
 
используется [[Потенциалы Терсоффа, Бреннера|эмпирический потенциал взаимодействия Терсофа]] для
 
используется [[Потенциалы Терсоффа, Бреннера|эмпирический потенциал взаимодействия Терсофа]] для
атомов кремния <ref name="Tersoff1"/> <ref name="Tersoff2"/>. Потенциал Терсоффа относится
+
атомов кремния [1], [2]. Потенциал Терсоффа относится к многочастичным
к [[Многочастичные силовые потенциалы взаимодействия | многочастичным потенциалам]]
+
потенциалам [3]. Так же, как вышеупомянутые потенциалы, многочастичные
<ref name="Erkoc"/>. Так же, как вышеупомянутые потенциалы, многочастичные
 
 
потенциалы представляются в виде суммы слагаемых по всем парам
 
потенциалы представляются в виде суммы слагаемых по всем парам
 
частиц, но каждое слагаемое зависит и от положения других частиц.
 
частиц, но каждое слагаемое зависит и от положения других частиц.
  
== Описание компьютерной модели ==
+
* Описание компьютерной модели
 
Компьютерный эксперимент производится посредством вычисления
 
Компьютерный эксперимент производится посредством вычисления
 
радиус векторов и векторов скорости частиц в зависимости от
 
радиус векторов и векторов скорости частиц в зависимости от
Строка 51: Строка 50:
  
 
<math>
 
<math>
     \underline{v} (t + \tau / 2) = \underline{v} (t - \tau / 2) + \underline{w} (t) \tau
+
     \bf{\underline{v}} (t + \tau / 2) = \underline{v} (t - \tau / 2) + \underline{w} (t) \tau
 
</math>
 
</math>
  
 
<math>
 
<math>
     \underline{r} (t + \tau) = \underline{r} (t) + \underline{v} (t + \tau / 2) \tau
+
     \bf{\underline{r}} (t + \tau) = \underline{r} (t) + \underline{v} (t + \tau / 2) \tau
 
</math>
 
</math>
  
где <math>\tau</math> – шаг интегрирования. Ускорение <math>\underline{w}(t)</math>
+
где <math>\tau</math> – шаг интегрирования. Ускорение <math>\bf{\underline{w}}(t)</math>
 
вычисляется через силу в тот же момент времени. В начальный
 
вычисляется через силу в тот же момент времени. В начальный
 
момент времени задается отсчетная конфигурация. Это может быть
 
момент времени задается отсчетная конфигурация. Это может быть
Строка 64: Строка 63:
 
1,1,1. Конфигурация представляет собой идеальную решетку структуры
 
1,1,1. Конфигурация представляет собой идеальную решетку структуры
 
алмаза. Межатомное расстояние вычисляется аналитически, с помощью
 
алмаза. Межатомное расстояние вычисляется аналитически, с помощью
минимизации функции потенциальной энергии ([[Потенциалы Терсоффа, Бреннера|потенциал Терсоффа]]). Для идеальной
+
минимизации функции потенциальной энергии [[Потенциалы Терсоффа, Бреннера|Потенциал Терсоффа]]. Для идеальной
 
решетки все слагаемые <math>V_{ij}</math> равны между собой. Кроме того,
 
решетки все слагаемые <math>V_{ij}</math> равны между собой. Кроме того,
 
для всех углов <math>\theta_{ijk} \quad \cos \theta_{ijk} = 1/3</math>. Это позволяет
 
для всех углов <math>\theta_{ijk} \quad \cos \theta_{ijk} = 1/3</math>. Это позволяет
Строка 89: Строка 88:
 
координаты измеряются в ангстремах, единица времени составляет
 
координаты измеряются в ангстремах, единица времени составляет
  
&Aring; <math>\sqrt{\frac{m}{\mbox{eV}}} = 5.39523 \cdot 10^{-14}</math> с
+
<math>\mbox{\AA} \sqrt{\frac{m}{\mbox{eV}}} = 5.39523 \cdot 10^{-14}</math> с
  
 
где <math>m = 28.0855 \cdot 1.66054 \cdot 10^{-27}</math> кг –
 
где <math>m = 28.0855 \cdot 1.66054 \cdot 10^{-27}</math> кг –
масса атома кремния, &Aring; <math> = 10^{-10}</math> м – ангстрем,
+
масса атома кремния, <math>\mbox{\AA} = 10^{-10}</math> м – ангстрем,
 
<math>\mbox{eV} = 1.60218 \cdot 10^{-19}</math> Дж – электрон-вольт.
 
<math>\mbox{eV} = 1.60218 \cdot 10^{-19}</math> Дж – электрон-вольт.
 
Минимальный период колебаний решетки в этих единицах – величина
 
Минимальный период колебаний решетки в этих единицах – величина
Строка 149: Строка 148:
 
принимали структуру, близкую к плотноупакованной решетке.
 
принимали структуру, близкую к плотноупакованной решетке.
  
== Вычисление температуры ==
+
* Вычисление температуры
 
Количественное выражение для температуры в
 
Количественное выражение для температуры в
 
экспериментах связано с представлениями об идеальном газе, в
 
экспериментах связано с представлениями об идеальном газе, в
Строка 169: Строка 168:
 
соответственно, температура.
 
соответственно, температура.
  
== Нагрев кристалла ==
+
* Нагрев кристалла
 
[[Файл:image091.png|thumb]]
 
[[Файл:image091.png|thumb]]
 
На этапе отладки и тестирования программы, использующей
 
На этапе отладки и тестирования программы, использующей
Строка 182: Строка 181:
 
Ниже приведены графики изменения кинетической (1) и полной (2)
 
Ниже приведены графики изменения кинетической (1) и полной (2)
 
энергии, значения на вертикальной шкале переведены в Кельвины.
 
энергии, значения на вертикальной шкале переведены в Кельвины.
 +
Виден горизонтальный участок кривой при 1800 К, на котором,
 +
видимо, происходит плавление.
  
==  Свободная поверхность 1,0,0 ==
+
* Свободная поверхность 1,0,0
 
[[Файл:image092.png|thumb|Рис.1. Вид кристалла Si. Идеальная решетка (перед нагреванием).]]
 
[[Файл:image092.png|thumb|Рис.1. Вид кристалла Si. Идеальная решетка (перед нагреванием).]]
 
[[Файл:image094.png|thumb|Рис.2. Вид кристалла Si после нагревания.]]
 
[[Файл:image094.png|thumb|Рис.2. Вид кристалла Si после нагревания.]]
Строка 196: Строка 197:
 
скоростей атомам на каждом шаге интегрирования, охлаждение – с
 
скоростей атомам на каждом шаге интегрирования, охлаждение – с
 
помощью введения диссипативных внешних сил, действующих на каждый
 
помощью введения диссипативных внешних сил, действующих на каждый
атом. На рисунках изображены состояния до и после нагревания до 350 К.
+
атом. На рисунках изображены состояния до и после нагревания до 700 К.
  
 
На первом рисунке видны ряды атомов поверхности пластины,
 
На первом рисунке видны ряды атомов поверхности пластины,
Строка 205: Строка 206:
 
поведение поверхности 1,0,0, наблюдаемое в реальных экспериментах.
 
поведение поверхности 1,0,0, наблюдаемое в реальных экспериментах.
  
== Атом на поверхности 1,1,1 ==
+
* Атом на поверхности 1,1,1
 
Рассмотрим теперь результаты численного эксперимента с адатомом на
 
Рассмотрим теперь результаты численного эксперимента с адатомом на
 
поверхности 1,1,1. Для уменьшения объема вычислений и для простоты
 
поверхности 1,1,1. Для уменьшения объема вычислений и для простоты
Строка 223: Строка 224:
 
нагревается. На рисунке 2 видно, что адатом задержался над атомом
 
нагревается. На рисунке 2 видно, что адатом задержался над атомом
 
поверхностного бислоя, заполняя объемную решетку следующего слоя
 
поверхностного бислоя, заполняя объемную решетку следующего слоя
(т.е. в эпитаксиальном положении). При нагревании выше 150 К адатом
+
(т.е. в эпитаксиальном положении). При нагревании выше 300К адатом
 
переходит в другое положение, в котором взаимодействует с тремя
 
переходит в другое положение, в котором взаимодействует с тремя
 
атомами поверхностного бислоя. Положение адатома над поверхностью
 
атомами поверхностного бислоя. Положение адатома над поверхностью
Строка 229: Строка 230:
 
[[Файл:image100.png|thumb]]
 
[[Файл:image100.png|thumb]]
  
== Диффузия атомов на поверхности 1,1,1 ==
+
* Диффузия атомов на поверхности 1,1,1
 
Для описания свойств поверхностной диффузии атомов
 
Для описания свойств поверхностной диффузии атомов
 
была рассмотрена следующая задача. На поверхность 1,1,1
 
была рассмотрена следующая задача. На поверхность 1,1,1
Строка 254: Строка 255:
  
 
Ниже изображены распределения адатомов по их смещению
 
Ниже изображены распределения адатомов по их смещению
относительно начальных положений при температуре 944 К. Серии
+
относительно начальных положений при температуре 1888 К. Серии
 
1, 2, 3 диаграммы соответствуют 300, 600 и 900 единицам времени.
 
1, 2, 3 диаграммы соответствуют 300, 600 и 900 единицам времени.
  
Строка 278: Строка 279:
  
 
[[Файл:vtsaplin_dif.png]]
 
[[Файл:vtsaplin_dif.png]]
 
== Оценка частоты перехода адатомов в смежные равновесные положения ==
 
По значению количества смещенных адатомов определяется частота
 
перехода адатомов в смежные равновесные положения. Вероятность
 
перехода оценивается по следующей формуле:
 
 
<math>P = 1 - \exp(- t / \langle t \rangle),</math>
 
 
где <math>\langle t \rangle</math> – среднее время перехода.
 
Соответственно, среднее время перехода вычисляется по формуле:
 
 
<math>\langle t \rangle = \frac{t}{|\log (1 - n / N)|},</math>
 
 
где <math>t</math> – время эксперимента, <math>n</math> – число перешедших атомов, <math>N</math>
 
– полное число поверхностных атомов. Поскольку число перешедших
 
атомов мало по сравнению с полным, то приближенно можно написать:
 
 
<math>\langle t \rangle = \frac{t}{(n / N)}</math>
 
 
Или, для частоты перехода:
 
 
<math>\omega = \frac{1}{\langle t \rangle} = \frac{(n / N)}{t}</math>
 
 
Т.е., частота перехода характеризуется наклоном прямой
 
относительного количества смещенных адатомов со временем. Наклон
 
вычисляется по приведенным выше графикам. Причем первое значение
 
(при <math>t = 0</math>) отбрасывается, поскольку из-за начальных возмущений
 
наклон кривой вначале имеет большее значение, как видно на графиках.
 
 
График изменения частоты перехода от температуры имеет вид:
 
 
[[Файл:vtsaplin_Fraq.png]]
 
 
Т.к. все характеристики процессов с температурной активацией
 
пропорциональны экспонентам типа <math>\exp(-E/kT)</math>, где <math>E</math> –
 
энергия активации процесса, <math>k</math> – постоянная Больцмана, <math>T</math> –
 
абсолютная температура, то построим эту характеристику в
 
аррениусовых координатах, т.е. зависимость логарифма частоты
 
перехода, или среднего времени перехода, от <math>(500/T)</math>. В таких
 
координатах должна получиться прямая, из наклона которой определим
 
энергию активации процесса.
 
 
[[Файл:vtsaplin_Arren.png]]
 
 
Поскольку в заданном диапазоне температур наклон кривой изменяется, вычислим два значения
 
энергии активации в двух диапазонах температур: больших и меньших 800 К. Энергия
 
активации при низкой температуре составила <math>E = 2.017 \cdot 10^{-19}</math> Дж <math> =
 
1.259 \,\mbox{eV}</math>. Энергия активации при высокой температуре
 
составила <math>E = 1.775 \cdot 10^{-19} </math> Дж <math> = 1.108
 
\,\mbox{eV}</math>. Погрешность вычислений этих величин равна 2 и 6
 
процентов соответственно. Погрешность рассчитывается как
 
среднеквадратичное отклонение от теоретических зависимостей, параметры которых
 
вычисляются методом наименьших квадратов.
 
 
== Оценка частоты перехода адатома в смежные равновесные положения при наличии смежного адатома ==
 
Определим частоту перехода адатомов на поверхности при наличии
 
адатома в смежном положении. Поместим на поверхность кремния пары
 
адатомов, после чего проведем тот же компьютерный эксперимент,
 
что и для одиночных атомов. Положение адатомов указаны на
 
рисунке. Полное число адатомов <math>N = 10000</math>.
 
 
[[Файл:vtsaplin_p3.png|thumb]]
 
 
Приведем графики изменения относительного количества
 
смещенных адатомов <math>(n/N)</math> со временем.
 
 
[[Файл:vtsaplin_dif_2.png]]
 
 
Графики изменения частоты перехода от температуры для одиночных
 
адатомов и пар адатомов имеют вид:
 
 
[[Файл:vtsaplin_fraq2.png]]
 
 
В аррениусовых координатах:
 
 
[[Файл:vtsaplin_Arren2.png]]
 
 
Энергии активации и погрешности для одиночных адатомов и пар
 
адатомов приведены в таблице.
 
 
{| class="wikitable"
 
|
 
| 1 адатом
 
| 2 адатома
 
|-
 
| Энергия активации при T < 800 K, eV
 
| <math>1.259 \pm 2 \%</math>
 
| <math>1.093 \pm 3 \%</math>
 
|-
 
| Энергия активации при T > 800 K, eV
 
| <math>1.108 \pm 7 \%</math>
 
| <math>1.031 \pm 15 \%</math>
 
|}
 
 
== Литература ==
 
 
<references>
 
 
<ref name="Tersoff1">J. Tersoff,
 
New Empirical Model for the Structural Properties of Silicon, Phys.
 
Rev. Lett., Vol. 56, Num. 6 (1986)</ref>
 
 
<ref name="Tersoff2">J.Tersoff, New empirical approach for the structure and energy of covalent system
 
// Phys.Rev. B (1988) V. 37, No 12, P.6991–6999[[Медиа:tersoff-silicon(main).pdf | (2.50 Mb)]]</ref>
 
 
<ref name="Erkoc">Sakir Erkoc, Empirical many-body potential energy functions used computer simulations
 
of condensed matter properties, Physics Reports 278 (1997), P. 79–105[[Медиа:Erkoc_1997.pdf | (937 Kb)]]</ref>
 
 
</references>
 
Вам запрещено изменять защиту статьи. Edit Создать редактором

Обратите внимание, что все добавления и изменения текста статьи рассматриваются как выпущенные на условиях лицензии Public Domain (см. Department of Theoretical and Applied Mechanics:Авторские права). Если вы не хотите, чтобы ваши тексты свободно распространялись и редактировались любым желающим, не помещайте их сюда.
Вы также подтверждаете, что являетесь автором вносимых дополнений или скопировали их из источника, допускающего свободное распространение и изменение своего содержимого.
НЕ РАЗМЕЩАЙТЕ БЕЗ РАЗРЕШЕНИЯ МАТЕРИАЛЫ, ОХРАНЯЕМЫЕ АВТОРСКИМ ПРАВОМ!

To protect the wiki against automated edit spam, we kindly ask you to solve the following CAPTCHA:

Отменить | Справка по редактированию  (в новом окне)