Редактирование: Моделирование поверхностной диффузии кремния методом молекулярной динамики

Перейти к: навигация, поиск

Внимание! Вы не авторизовались на сайте. Ваш IP-адрес будет публично видимым, если вы будете вносить любые правки. Если вы войдёте или создадите учётную запись, правки вместо этого будут связаны с вашим именем пользователя, а также у вас появятся другие преимущества.

Правка может быть отменена. Пожалуйста, просмотрите сравнение версий, чтобы убедиться, что это именно те изменения, которые вас интересуют, и нажмите «Записать страницу», чтобы изменения вступили в силу.
Текущая версия Ваш текст
Строка 1: Строка 1:
== Введение ==
+
* Введение
 
В рассматриваемой работе описывается компьютерная модель,
 
В рассматриваемой работе описывается компьютерная модель,
 
позволяющая рассчитывать поведение кристалла кремния, имеющего
 
позволяющая рассчитывать поведение кристалла кремния, имеющего
Строка 9: Строка 9:
 
1,1,1 и моделирование диффузии атомов на поверхности 1,1,1.
 
1,1,1 и моделирование диффузии атомов на поверхности 1,1,1.
  
== Описание метода молекулярной динамики ==
+
* Описание метода молекулярной динамики
 
В основе применения метода молекулярной динамики для численных
 
В основе применения метода молекулярной динамики для численных
 
экспериментов лежит интегрирование уравнений движения частиц, –
 
экспериментов лежит интегрирование уравнений движения частиц, –
Строка 17: Строка 17:
 
рассматриваемой среды.
 
рассматриваемой среды.
  
== Задание свойств атомов кремния ==
+
* Задание свойств атомов кремния
 
Силы взаимодействия между атомами кремния в кристалле весьма
 
Силы взаимодействия между атомами кремния в кристалле весьма
 
сложны, что обусловлено структурой электронных оболочек атомов.
 
сложны, что обусловлено структурой электронных оболочек атомов.
Строка 35: Строка 35:
 
рассматриваемом кристалле. В описываемой компьютерной модели
 
рассматриваемом кристалле. В описываемой компьютерной модели
 
используется [[Потенциалы Терсоффа, Бреннера|эмпирический потенциал взаимодействия Терсофа]] для
 
используется [[Потенциалы Терсоффа, Бреннера|эмпирический потенциал взаимодействия Терсофа]] для
атомов кремния <ref name="Tersoff1"/> <ref name="Tersoff2"/>. Потенциал Терсоффа относится
+
атомов кремния [1], [2]. Потенциал Терсоффа относится к многочастичным
к [[Многочастичные силовые потенциалы взаимодействия | многочастичным потенциалам]]
+
потенциалам [3]. Так же, как вышеупомянутые потенциалы, многочастичные
<ref name="Erkoc"/>. Так же, как вышеупомянутые потенциалы, многочастичные
 
 
потенциалы представляются в виде суммы слагаемых по всем парам
 
потенциалы представляются в виде суммы слагаемых по всем парам
 
частиц, но каждое слагаемое зависит и от положения других частиц.
 
частиц, но каждое слагаемое зависит и от положения других частиц.
  
== Описание компьютерной модели ==
+
* Описание компьютерной модели
 
Компьютерный эксперимент производится посредством вычисления
 
Компьютерный эксперимент производится посредством вычисления
 
радиус векторов и векторов скорости частиц в зависимости от
 
радиус векторов и векторов скорости частиц в зависимости от
Строка 51: Строка 50:
  
 
<math>
 
<math>
     \underline{v} (t + \tau / 2) = \underline{v} (t - \tau / 2) + \underline{w} (t) \tau
+
     \bf{\underline{v}} (t + \tau / 2) = \underline{v} (t - \tau / 2) + \underline{w} (t) \tau
 
</math>
 
</math>
  
 
<math>
 
<math>
     \underline{r} (t + \tau) = \underline{r} (t) + \underline{v} (t + \tau / 2) \tau
+
     \bf{\underline{r}} (t + \tau) = \underline{r} (t) + \underline{v} (t + \tau / 2) \tau
 
</math>
 
</math>
  
где <math>\tau</math> – шаг интегрирования. Ускорение <math>\underline{w}(t)</math>
+
где <math>\tau</math> – шаг интегрирования. Ускорение <math>\bf{\underline{w}}(t)</math>
 
вычисляется через силу в тот же момент времени. В начальный
 
вычисляется через силу в тот же момент времени. В начальный
 
момент времени задается отсчетная конфигурация. Это может быть
 
момент времени задается отсчетная конфигурация. Это может быть
Строка 64: Строка 63:
 
1,1,1. Конфигурация представляет собой идеальную решетку структуры
 
1,1,1. Конфигурация представляет собой идеальную решетку структуры
 
алмаза. Межатомное расстояние вычисляется аналитически, с помощью
 
алмаза. Межатомное расстояние вычисляется аналитически, с помощью
минимизации функции потенциальной энергии ([[Потенциалы Терсоффа, Бреннера|потенциал Терсоффа]]). Для идеальной
+
минимизации функции потенциальной энергии [[Потенциалы Терсоффа, Бреннера|Потенциал Терсоффа]]. Для идеальной
 
решетки все слагаемые <math>V_{ij}</math> равны между собой. Кроме того,
 
решетки все слагаемые <math>V_{ij}</math> равны между собой. Кроме того,
 
для всех углов <math>\theta_{ijk} \quad \cos \theta_{ijk} = 1/3</math>. Это позволяет
 
для всех углов <math>\theta_{ijk} \quad \cos \theta_{ijk} = 1/3</math>. Это позволяет
Строка 89: Строка 88:
 
координаты измеряются в ангстремах, единица времени составляет
 
координаты измеряются в ангстремах, единица времени составляет
  
&Aring; <math>\sqrt{\frac{m}{\mbox{eV}}} = 5.39523 \cdot 10^{-14}</math> с
+
<math>\mbox{\AA} \sqrt{\frac{m}{\mbox{eV}}} = 5.39523 \cdot 10^{-14}</math> с
  
 
где <math>m = 28.0855 \cdot 1.66054 \cdot 10^{-27}</math> кг –
 
где <math>m = 28.0855 \cdot 1.66054 \cdot 10^{-27}</math> кг –
масса атома кремния, &Aring; <math> = 10^{-10}</math> м – ангстрем,
+
масса атома кремния, <math>\mbox{\AA} = 10^{-10}</math> м – ангстрем,
 
<math>\mbox{eV} = 1.60218 \cdot 10^{-19}</math> Дж – электрон-вольт.
 
<math>\mbox{eV} = 1.60218 \cdot 10^{-19}</math> Дж – электрон-вольт.
 
Минимальный период колебаний решетки в этих единицах – величина
 
Минимальный период колебаний решетки в этих единицах – величина
Строка 149: Строка 148:
 
принимали структуру, близкую к плотноупакованной решетке.
 
принимали структуру, близкую к плотноупакованной решетке.
  
== Вычисление температуры ==
+
* Вычисление температуры
 
Количественное выражение для температуры в
 
Количественное выражение для температуры в
 
экспериментах связано с представлениями об идеальном газе, в
 
экспериментах связано с представлениями об идеальном газе, в
Строка 169: Строка 168:
 
соответственно, температура.
 
соответственно, температура.
  
== Нагрев кристалла ==
+
* Нагрев кристалла
[[Файл:image091.png|thumb]]
 
 
На этапе отладки и тестирования программы, использующей
 
На этапе отладки и тестирования программы, использующей
 
вышеописанный метод, проводились эксперименты, связанные в
 
вышеописанный метод, проводились эксперименты, связанные в
Строка 182: Строка 180:
 
Ниже приведены графики изменения кинетической (1) и полной (2)
 
Ниже приведены графики изменения кинетической (1) и полной (2)
 
энергии, значения на вертикальной шкале переведены в Кельвины.
 
энергии, значения на вертикальной шкале переведены в Кельвины.
 +
Виден горизонтальный участок кривой при 1800 К, на котором,
 +
видимо, происходит плавление.
  
== Свободная поверхность 1,0,0 ==
+
  \showpix{image091}{396}{414}{5}
[[Файл:image092.png|thumb|Рис.1. Вид кристалла Si. Идеальная решетка (перед нагреванием).]]
+
 
[[Файл:image094.png|thumb|Рис.2. Вид кристалла Si после нагревания.]]
+
* Свободная поверхность 1,0,0
 
Ниже приведены результаты компьютерного эксперимента по нагреванию
 
Ниже приведены результаты компьютерного эксперимента по нагреванию
 
кремниевой пластины с поверхностью 1,0,0. Верхняя грань кристалла,
 
кремниевой пластины с поверхностью 1,0,0. Верхняя грань кристалла,
Строка 194: Строка 194:
 
равных 1000 единиц времени (см. "Описание компьютерной модели").
 
равных 1000 единиц времени (см. "Описание компьютерной модели").
 
Нагревание проводилось с помощью сообщения случайных приращений
 
Нагревание проводилось с помощью сообщения случайных приращений
скоростей атомам на каждом шаге интегрирования, охлаждение с
+
скоростей атомам на каждом шаге интегрирования, охлаждение --- с
 
помощью введения диссипативных внешних сил, действующих на каждый
 
помощью введения диссипативных внешних сил, действующих на каждый
атом. На рисунках изображены состояния до и после нагревания до 350 К.
+
атом. На рисунках изображены состояния до и после нагревания до 700 К.
  
 
На первом рисунке видны ряды атомов поверхности пластины,
 
На первом рисунке видны ряды атомов поверхности пластины,
Строка 205: Строка 205:
 
поведение поверхности 1,0,0, наблюдаемое в реальных экспериментах.
 
поведение поверхности 1,0,0, наблюдаемое в реальных экспериментах.
  
== Атом на поверхности 1,1,1 ==
+
[[Файл:image092.png|thumb|Рис.1. Вид кристалла Si. Идеальная решетка (перед нагреванием).]]
Рассмотрим теперь результаты численного эксперимента с адатомом на
 
поверхности 1,1,1. Для уменьшения объема вычислений и для простоты
 
наблюдения  за адатомом пространственный бокс взят меньшего
 
размера, чем в эксперименте с пластиной с поверхностью 1,0,0.
 
Граничные условия те же – периодичность по двум направлениям в
 
плоскости пластины (эти два направления и задают плоскость
 
пластины, поскольку размеры кристалла примерно одинаковы по всем
 
трем направлениям, как видно из рисунков). Свободные поверхности
 
на рисунках изображены сверху и снизу. Как видно, толщина пластины
 
– 5 бислоев.
 
 
 
Атом помещается на некотором расстоянии от поверхности кристалла,
 
как показано на первом рисунке. В начальный момент времени
 
кристалл имеет температуру 0К. Атому сообщается скорость по
 
направлению к поверхности кристалла. Затем кристалл постепенно
 
нагревается. На рисунке 2 видно, что адатом задержался над атомом
 
поверхностного бислоя, заполняя объемную решетку следующего слоя
 
(т.е. в эпитаксиальном положении). При нагревании выше 150 К адатом
 
переходит в другое положение, в котором взаимодействует с тремя
 
атомами поверхностного бислоя. Положение адатома над поверхностью
 
существенно ниже, на рис. 3, 4 стрелки указывают на адатом.
 
[[Файл:image100.png|thumb]]
 
 
 
== Диффузия атомов на поверхности 1,1,1 ==
 
Для описания свойств поверхностной диффузии атомов
 
была рассмотрена следующая задача. На поверхность 1,1,1
 
пластины кремния, имеющего кристаллическую решетку структуры
 
алмаза, через равномерные интервалы были помещены атомы.
 
Затем пластина поддерживалась в нагретом состоянии
 
при различных температурах в течение некоторого времени.
 
Нагрев производился сообщением
 
случайных начальных скоростей атомам, с заданным средним значением
 
кинетической энергии атомов. Наблюдались перемещения
 
адатомов (дополнительных атомов). На рисунках изображены положения
 
атомов в поверхностном слое в начальный и конечный моменты
 
времени, в одном из компьютерных экспериментов.
 
Синим цветом изображены адатомы, красным – атомы
 
поверхностного бислоя, половина из которых принадлежит
 
поверхностному монослою.
 
 
 
[[Файл:vtsaplin_p1.png|thumb]]
 
[[Файл:vtsaplin_p2.png|thumb]]
 
 
 
Приведенные рисунки относятся к задаче на 1 процессоре со 100
 
поверхностными атомами. Эксперимент проводился на 50 процессорах,
 
т.е. общее число адатомов – 5000.
 
 
 
Ниже изображены распределения адатомов по их смещению
 
относительно начальных положений при температуре 944 К. Серии
 
1, 2, 3 диаграммы соответствуют 300, 600 и 900 единицам времени.
 
 
 
[[Файл:vtsaplin_file0.png]]
 
 
 
Одна ячейка на диаграммах соответствует 1/10 межатомного
 
расстояния.
 
 
 
Первый максимум на рисунках соответствует адатомам, не перешедшим
 
в другое положение, второй максимум – перешедшим. Поскольку в
 
начальный момент времени равновесные положения адатомов
 
задавались приближенно, исходя из предположения, что все связи
 
между атомами равны между собой, то первый максимум распределения
 
находится не в нуле. Все адатомы сместились вдоль оси,
 
перпендикулярной поверхности кристалла. На диаграммах видно, что
 
со временем количество смещенных частиц возрастает.
 
 
 
Ниже изображены графики изменения относительного количества
 
смещенных адатомов <math>(n/N)</math> со временем при различных
 
температурах. Смещенными считаются адатомы, перешедшие минимум
 
распределения по смещению, который находится между первым и
 
вторым максимумами.
 
 
 
[[Файл:vtsaplin_dif.png]]
 
 
 
== Оценка частоты перехода адатомов в смежные равновесные положения ==
 
По значению количества смещенных адатомов определяется частота
 
перехода адатомов в смежные равновесные положения. Вероятность
 
перехода оценивается по следующей формуле:
 
 
 
<math>P = 1 - \exp(- t / \langle t \rangle),</math>
 
 
 
где <math>\langle t \rangle</math> – среднее время перехода.
 
Соответственно, среднее время перехода вычисляется по формуле:
 
 
 
<math>\langle t \rangle = \frac{t}{|\log (1 - n / N)|},</math>
 
 
 
где <math>t</math> – время эксперимента, <math>n</math> – число перешедших атомов, <math>N</math>
 
– полное число поверхностных атомов. Поскольку число перешедших
 
атомов мало по сравнению с полным, то приближенно можно написать:
 
 
 
<math>\langle t \rangle = \frac{t}{(n / N)}</math>
 
 
 
Или, для частоты перехода:
 
 
 
<math>\omega = \frac{1}{\langle t \rangle} = \frac{(n / N)}{t}</math>
 
 
 
Т.е., частота перехода характеризуется наклоном прямой
 
относительного количества смещенных адатомов со временем. Наклон
 
вычисляется по приведенным выше графикам. Причем первое значение
 
(при <math>t = 0</math>) отбрасывается, поскольку из-за начальных возмущений
 
наклон кривой вначале имеет большее значение, как видно на графиках.
 
 
 
График изменения частоты перехода от температуры имеет вид:
 
 
 
[[Файл:vtsaplin_Fraq.png]]
 
 
 
Т.к. все характеристики процессов с температурной активацией
 
пропорциональны экспонентам типа <math>\exp(-E/kT)</math>, где <math>E</math> –
 
энергия активации процесса, <math>k</math> – постоянная Больцмана, <math>T</math> –
 
абсолютная температура, то построим эту характеристику в
 
аррениусовых координатах, т.е. зависимость логарифма частоты
 
перехода, или среднего времени перехода, от <math>(500/T)</math>. В таких
 
координатах должна получиться прямая, из наклона которой определим
 
энергию активации процесса.
 
 
 
[[Файл:vtsaplin_Arren.png]]
 
 
 
Поскольку в заданном диапазоне температур наклон кривой изменяется, вычислим два значения
 
энергии активации в двух диапазонах температур: больших и меньших 800 К. Энергия
 
активации при низкой температуре составила <math>E = 2.017 \cdot 10^{-19}</math> Дж <math> =
 
1.259 \,\mbox{eV}</math>. Энергия активации при высокой температуре
 
составила <math>E = 1.775 \cdot 10^{-19} </math> Дж <math> = 1.108
 
\,\mbox{eV}</math>. Погрешность вычислений этих величин равна 2 и 6
 
процентов соответственно. Погрешность рассчитывается как
 
среднеквадратичное отклонение от теоретических зависимостей, параметры которых
 
вычисляются методом наименьших квадратов.
 
 
 
== Оценка частоты перехода адатома в смежные равновесные положения при наличии смежного адатома ==
 
Определим частоту перехода адатомов на поверхности при наличии
 
адатома в смежном положении. Поместим на поверхность кремния пары
 
адатомов, после чего проведем тот же компьютерный эксперимент,
 
что и для одиночных атомов. Положение адатомов указаны на
 
рисунке. Полное число адатомов <math>N = 10000</math>.
 
 
 
[[Файл:vtsaplin_p3.png|thumb]]
 
 
 
Приведем графики изменения относительного количества
 
смещенных адатомов <math>(n/N)</math> со временем.
 
 
 
[[Файл:vtsaplin_dif_2.png]]
 
 
 
Графики изменения частоты перехода от температуры для одиночных
 
адатомов и пар адатомов имеют вид:
 
 
 
[[Файл:vtsaplin_fraq2.png]]
 
 
 
В аррениусовых координатах:
 
 
 
[[Файл:vtsaplin_Arren2.png]]
 
 
 
Энергии активации и погрешности для одиночных адатомов и пар
 
адатомов приведены в таблице.
 
 
 
{| class="wikitable"
 
|
 
| 1 адатом
 
| 2 адатома
 
|-
 
| Энергия активации при T < 800 K, eV
 
| <math>1.259 \pm 2 \%</math>
 
| <math>1.093 \pm 3 \%</math>
 
|-
 
| Энергия активации при T > 800 K, eV
 
| <math>1.108 \pm 7 \%</math>
 
| <math>1.031 \pm 15 \%</math>
 
|}
 
 
 
== Литература ==
 
 
 
<references>
 
 
 
<ref name="Tersoff1">J. Tersoff,
 
New Empirical Model for the Structural Properties of Silicon, Phys.
 
Rev. Lett., Vol. 56, Num. 6 (1986)</ref>
 
 
 
<ref name="Tersoff2">J.Tersoff, New empirical approach for the structure and energy of covalent system
 
// Phys.Rev. B (1988) V. 37, No 12, P.6991–6999[[Медиа:tersoff-silicon(main).pdf | (2.50 Mb)]]</ref>
 
 
 
<ref name="Erkoc">Sakir Erkoc, Empirical many-body potential energy functions used computer simulations
 
of condensed matter properties, Physics Reports 278 (1997), P. 79–105[[Медиа:Erkoc_1997.pdf | (937 Kb)]]</ref>
 
  
</references>
+
[[Файл:image094.png|thumb|Рис.1. Рис.2. Вид кристалла Si после нагревания.]]
Вам запрещено изменять защиту статьи. Edit Создать редактором

Обратите внимание, что все добавления и изменения текста статьи рассматриваются как выпущенные на условиях лицензии Public Domain (см. Department of Theoretical and Applied Mechanics:Авторские права). Если вы не хотите, чтобы ваши тексты свободно распространялись и редактировались любым желающим, не помещайте их сюда.
Вы также подтверждаете, что являетесь автором вносимых дополнений или скопировали их из источника, допускающего свободное распространение и изменение своего содержимого.
НЕ РАЗМЕЩАЙТЕ БЕЗ РАЗРЕШЕНИЯ МАТЕРИАЛЫ, ОХРАНЯЕМЫЕ АВТОРСКИМ ПРАВОМ!

To protect the wiki against automated edit spam, we kindly ask you to solve the following CAPTCHA:

Отменить | Справка по редактированию  (в новом окне)