Решение связанных краевых задач механохимии — различия между версиями
Polina (обсуждение | вклад) |
Polina (обсуждение | вклад) |
||
Строка 4: | Строка 4: | ||
== Введение и описание проблемы == | == Введение и описание проблемы == | ||
− | Проблема окисления кремния сегодня является одной из важнейших проблем в химии в связи с широким использованием и значимостью технологии кремниевых интегральных схем. Так как объем молекулы диоксида кремния примерно в 2.3 раза больше атома кремния, окисление кремния сопровождается увеличением объема, порождающим внутренние деформации и напряжения. Кроме того, зачастую химическая реакция проходит также и под приложенными внешними механическими нагрузками. Это значит, что задача скорости роста превращенного слоя и распространения фронта химической реакции не может не учитывать механические напряжения. | + | Проблема окисления кремния сегодня является одной из важнейших проблем в химии в связи с широким использованием и значимостью технологии кремниевых интегральных схем. Так как объем молекулы диоксида кремния примерно в 2.3 раза больше атома кремния, окисление кремния сопровождается увеличением объема, порождающим внутренние деформации и напряжения. Кроме того, зачастую химическая реакция проходит также и под приложенными внешними механическими нагрузками. Это значит, что задача скорости роста превращенного слоя и распространения фронта химической реакции не может не учитывать механические напряжения. |
+ | |||
В классической химии скорость реакции определяется химическим сродством реакции, которое является комбинацией химических потенциалов участвующих в химической реакции компонент: | В классической химии скорость реакции определяется химическим сродством реакции, которое является комбинацией химических потенциалов участвующих в химической реакции компонент: | ||
<math>A = - \sum n_k M_k \mu_k,</math> | <math>A = - \sum n_k M_k \mu_k,</math> | ||
где <math>\mu_k</math> - относительный (на единицу массы) химический потенциал k-той компоненты, <math>M_k</math> - молярная масса, стохиометрический коэффициент <math>n_k</math> входит в сумму со знаком “+”, если k-тая компонента производится в результате реакции, и со знаком “-”, если расходуется. Химическое сродство широко используется в термодинамической теории химических реакций. В частности, кинетическое уравнение было сформулировано в следующем виде: | где <math>\mu_k</math> - относительный (на единицу массы) химический потенциал k-той компоненты, <math>M_k</math> - молярная масса, стохиометрический коэффициент <math>n_k</math> входит в сумму со знаком “+”, если k-тая компонента производится в результате реакции, и со знаком “-”, если расходуется. Химическое сродство широко используется в термодинамической теории химических реакций. В частности, кинетическое уравнение было сформулировано в следующем виде: | ||
<math>\omega = k_* c \left\{ {1 - \exp \left( { - \frac{{{A}}}{{RT}}} \right)} \right\}.</math> | <math>\omega = k_* c \left\{ {1 - \exp \left( { - \frac{{{A}}}{{RT}}} \right)} \right\}.</math> | ||
− | Здесь <math>\omega</math> - скорость химической реакции, <math>k_*</math> - кинетическая константа (параметр реакции), <math>R = 8.31 \mathrm{JK^{-1}mol^{-1}}</math> - универсальная газовая постоянная, T - температура, <math>c</math> - молярная концентрация газовой компоненты реакции. | + | Здесь <math>\omega</math> - скорость химической реакции, <math>k_*</math> - кинетическая константа (параметр реакции), <math>R = 8.31 \mathrm{JK^{-1}mol^{-1}}</math> - универсальная газовая постоянная, T - температура, <math>c</math> - молярная концентрация газовой компоненты реакции. |
− | В случае химических реакций в газах и жидкостях, где напряжения определяются скалярной величиной - давлением, химический потенциал также является скалярной величиной. В случае твердых реагирующих компонент химический потенциал становится тензором. В результате изучения фазового равновесия, было показано, что тензор химического потенциала для твердой компоненты определяется тензором энергии-импульса Эшелби. В работе (1) выражение для тензора химического сродства было получено как результат анализа уравнений баланса массы, импульса и энергии, а также неравенства энтропии, которое было записано для химической реакции между газовой и твердыми компонентами произвольной реологии. А именно, в диссипативном неравенстве для химической реакции было показано, что скорость реакции на ориентированной площадке с нормалью <math>\boldsymbol{n}</math> сопряжена с нормальной компонентой <math>\boldsymbol{A_{nn}} = \boldsymbol{n \cdot A \cdot n}</math> тензора <math>\boldsymbol{A}</math>, который и приняли за тензор химического сродства. | + | |
− | Итак, влияние механических нагрузок на рост превращенного слоя и, соответственно, на распространения фронта химической реакции, может быть учтено несколькими способами: через вышеописанную зависимость химического сродства от напряжений, или через зависимость кинетической константы (параметра реакции) от напряжений. Помимо влияния на термодинамику, механические нагрузки также влияют и на диффузию газовой компоненты, и, соответственно, на ее концентрацию, которая входит в выражение для скорости химической реакции. Существуют различные способы представления зависимости диффузии от механических напряжений. В некоторых работах механические нагрузки учитываются через зависимость коэффициента диффузии от напряжений, эта зависимость является эмпирической. В некоторых работах механические нагрузки вводятся дополнительным членом, зависящим от напряжений, в закон Фика. Однако чаще всего при рассмотрении химических реакций под механическими нагрузками зависимость диффузии от напряжений не учитывается, и берется постоянное значение коэффициента диффузии. | + | В случае химических реакций в газах и жидкостях, где напряжения определяются скалярной величиной - давлением, химический потенциал также является скалярной величиной. В случае твердых реагирующих компонент химический потенциал становится тензором. В результате изучения фазового равновесия, было показано, что тензор химического потенциала для твердой компоненты определяется тензором энергии-импульса Эшелби. В работе (1) выражение для тензора химического сродства было получено как результат анализа уравнений баланса массы, импульса и энергии, а также неравенства энтропии, которое было записано для химической реакции между газовой и твердыми компонентами произвольной реологии. А именно, в диссипативном неравенстве для химической реакции было показано, что скорость реакции на ориентированной площадке с нормалью <math>\boldsymbol{n}</math> сопряжена с нормальной компонентой <math>\boldsymbol{A_{nn}} = \boldsymbol{n \cdot A \cdot n}</math> тензора <math>\boldsymbol{A}</math>, который и приняли за тензор химического сродства. |
+ | |||
+ | Итак, влияние механических нагрузок на рост превращенного слоя и, соответственно, на распространения фронта химической реакции, может быть учтено несколькими способами: через вышеописанную зависимость химического сродства от напряжений, или через зависимость кинетической константы (параметра реакции) от напряжений. Помимо влияния на термодинамику, механические нагрузки также влияют и на диффузию газовой компоненты, и, соответственно, на ее концентрацию, которая входит в выражение для скорости химической реакции. Существуют различные способы представления зависимости диффузии от механических напряжений. В некоторых работах механические нагрузки учитываются через зависимость коэффициента диффузии от напряжений, эта зависимость является эмпирической. В некоторых работах механические нагрузки вводятся дополнительным членом, зависящим от напряжений, в закон Фика. Однако чаще всего при рассмотрении химических реакций под механическими нагрузками зависимость диффузии от напряжений не учитывается, и берется постоянное значение коэффициента диффузии. | ||
В этой работе предпринимается попытка предложить разумную и обоснованную зависимость коэффициента диффузии от механический напряжений, а именно - от деформаций скелета твердого тела, что ведет к модели тензодиффузии. Для различных краевых задач проводится вычисление кинетики продвижения фронта химической реакции в зависимости от приложенных внешних нагрузок с использованием модели тензорного химического сродства. Сравниваются результаты, полученные для предложенного коэффицента диффузии, для принятого эмпирического и для постоянного коэффициента, чтобы выяснить, как диффузия под напряжением влияет на распространение фронта химической реакции, исследовать, какой из коэффициентов диффузии оказывает более сильное влияние на процесс распространения фронта химической реакции, и получить значения внешних нагрузок, при которых зависимостью коэффициента диффузии от напряжений можно пренебречь и считать его постоянным. | В этой работе предпринимается попытка предложить разумную и обоснованную зависимость коэффициента диффузии от механический напряжений, а именно - от деформаций скелета твердого тела, что ведет к модели тензодиффузии. Для различных краевых задач проводится вычисление кинетики продвижения фронта химической реакции в зависимости от приложенных внешних нагрузок с использованием модели тензорного химического сродства. Сравниваются результаты, полученные для предложенного коэффицента диффузии, для принятого эмпирического и для постоянного коэффициента, чтобы выяснить, как диффузия под напряжением влияет на распространение фронта химической реакции, исследовать, какой из коэффициентов диффузии оказывает более сильное влияние на процесс распространения фронта химической реакции, и получить значения внешних нагрузок, при которых зависимостью коэффициента диффузии от напряжений можно пренебречь и считать его постоянным. | ||
Строка 35: | Строка 38: | ||
</math> | </math> | ||
− | где <math>{\boldsymbol{\sigma }}_{^ - }^{} = {{\bf{C}}_{^ - }}:{{\boldsymbol{\varepsilon }}_{^ - }}</math> и <math>{{\boldsymbol{\sigma }}_{^ + }} = {{\boldsymbol{C}}_{^ + }}:({{\boldsymbol{\varepsilon }}_{^ + }} - {{\boldsymbol{\varepsilon }}_{^{{\rm{ch}}}}})</math> - тензора напряжений Коши, <math>{{\boldsymbol{C}}_{^ \pm }}</math> являются тензорами жесткости упругих компонент, <math>{{\boldsymbol{\varepsilon }}_{^ \pm }}</math> - тензора деформации, <math>c(\Gamma )</math> - концентрация газа на фронте реакции, <math>c_*</math> - растворимость газовой компоненты в сформированном материале <math>B_ +</math>. Также мы относим деформации химических превращений к <math>{{\bf{\varepsilon }}_{^{{\rm{ch}}}}}</math> и считаем, что эти деформации изотропны в объеме, т.е. <math>{{ \boldsymbol{\varepsilon }}_{^{{\rm{ch}}}}} = {\varepsilon _{^{{\rm{ch}}}}}\boldsymbol{I}</math> , где <math>\boldsymbol{I}</math> - единичный тензор. Параметр <math>\gamma (T)</math> отвечает за отсчетные уровни химических энергий. Если температура <math>Т</math> дана, <math>\gamma (T)</math> является параметром модели | + | где <math>{\boldsymbol{\sigma }}_{^ - }^{} = {{\bf{C}}_{^ - }}:{{\boldsymbol{\varepsilon }}_{^ - }}</math> и <math>{{\boldsymbol{\sigma }}_{^ + }} = {{\boldsymbol{C}}_{^ + }}:({{\boldsymbol{\varepsilon }}_{^ + }} - {{\boldsymbol{\varepsilon }}_{^{{\rm{ch}}}}})</math> - тензора напряжений Коши, <math>{{\boldsymbol{C}}_{^ \pm }}</math> являются тензорами жесткости упругих компонент, <math>{{\boldsymbol{\varepsilon }}_{^ \pm }}</math> - тензора деформации, <math>c(\Gamma )</math> - концентрация газа на фронте реакции, <math>c_*</math> - растворимость газовой компоненты в сформированном материале <math>B_ +</math>. Также мы относим деформации химических превращений к <math>{{\bf{\varepsilon }}_{^{{\rm{ch}}}}}</math> и считаем, что эти деформации изотропны в объеме, т.е. <math>{{ \boldsymbol{\varepsilon }}_{^{{\rm{ch}}}}} = {\varepsilon _{^{{\rm{ch}}}}}\boldsymbol{I}</math> , где <math>\boldsymbol{I}</math> - единичный тензор. Параметр <math>\gamma (T)</math> отвечает за отсчетные уровни химических энергий. Если температура <math>Т</math> дана, <math>\gamma (T)</math> является параметром модели. |
Если мы заменим скалярную величину химического сродства нормальной компонентой тензора химического сродства, скорость на элементе поверхности с нормалью <math>\boldsymbol{n}</math> будет определяться выражением: | Если мы заменим скалярную величину химического сродства нормальной компонентой тензора химического сродства, скорость на элементе поверхности с нормалью <math>\boldsymbol{n}</math> будет определяться выражением: | ||
Строка 78: | Строка 81: | ||
Первое условие следует из условия баланса массы на внешней границе тела <math>\Omega</math>, <math>\alpha</math> - константа скорости растворения молекул газа в новом материале. Второе условие следует из условия баланса массы на фронте реакции <math>\Gamma</math>. | Первое условие следует из условия баланса массы на внешней границе тела <math>\Omega</math>, <math>\alpha</math> - константа скорости растворения молекул газа в новом материале. Второе условие следует из условия баланса массы на фронте реакции <math>\Gamma</math>. | ||
− | Определение коэффициента диффузии используется согласно | + | Определение коэффициента диффузии используется согласно. Коэффициент диффузии может быть подсчитан по следующей формуле: |
<math> | <math> | ||
D = {D_0}{e^{ - p{V_d}/kT}}, D < {D_{{\rm{max}}}} | D = {D_0}{e^{ - p{V_d}/kT}}, D < {D_{{\rm{max}}}} |
Версия 22:22, 14 июня 2017
МГИСТРСКАЯ РАБОТА
Автор работы: Григорьева Полина
Научный руководитель: Елена Вильчевская
Содержание
Введение и описание проблемы
Проблема окисления кремния сегодня является одной из важнейших проблем в химии в связи с широким использованием и значимостью технологии кремниевых интегральных схем. Так как объем молекулы диоксида кремния примерно в 2.3 раза больше атома кремния, окисление кремния сопровождается увеличением объема, порождающим внутренние деформации и напряжения. Кроме того, зачастую химическая реакция проходит также и под приложенными внешними механическими нагрузками. Это значит, что задача скорости роста превращенного слоя и распространения фронта химической реакции не может не учитывать механические напряжения.
В классической химии скорость реакции определяется химическим сродством реакции, которое является комбинацией химических потенциалов участвующих в химической реакции компонент:
где - относительный (на единицу массы) химический потенциал k-той компоненты, - молярная масса, стохиометрический коэффициент входит в сумму со знаком “+”, если k-тая компонента производится в результате реакции, и со знаком “-”, если расходуется. Химическое сродство широко используется в термодинамической теории химических реакций. В частности, кинетическое уравнение было сформулировано в следующем виде: Здесь - скорость химической реакции, - кинетическая константа (параметр реакции), - универсальная газовая постоянная, T - температура, - молярная концентрация газовой компоненты реакции.В случае химических реакций в газах и жидкостях, где напряжения определяются скалярной величиной - давлением, химический потенциал также является скалярной величиной. В случае твердых реагирующих компонент химический потенциал становится тензором. В результате изучения фазового равновесия, было показано, что тензор химического потенциала для твердой компоненты определяется тензором энергии-импульса Эшелби. В работе (1) выражение для тензора химического сродства было получено как результат анализа уравнений баланса массы, импульса и энергии, а также неравенства энтропии, которое было записано для химической реакции между газовой и твердыми компонентами произвольной реологии. А именно, в диссипативном неравенстве для химической реакции было показано, что скорость реакции на ориентированной площадке с нормалью
сопряжена с нормальной компонентой тензора , который и приняли за тензор химического сродства.Итак, влияние механических нагрузок на рост превращенного слоя и, соответственно, на распространения фронта химической реакции, может быть учтено несколькими способами: через вышеописанную зависимость химического сродства от напряжений, или через зависимость кинетической константы (параметра реакции) от напряжений. Помимо влияния на термодинамику, механические нагрузки также влияют и на диффузию газовой компоненты, и, соответственно, на ее концентрацию, которая входит в выражение для скорости химической реакции. Существуют различные способы представления зависимости диффузии от механических напряжений. В некоторых работах механические нагрузки учитываются через зависимость коэффициента диффузии от напряжений, эта зависимость является эмпирической. В некоторых работах механические нагрузки вводятся дополнительным членом, зависящим от напряжений, в закон Фика. Однако чаще всего при рассмотрении химических реакций под механическими нагрузками зависимость диффузии от напряжений не учитывается, и берется постоянное значение коэффициента диффузии.
В этой работе предпринимается попытка предложить разумную и обоснованную зависимость коэффициента диффузии от механический напряжений, а именно - от деформаций скелета твердого тела, что ведет к модели тензодиффузии. Для различных краевых задач проводится вычисление кинетики продвижения фронта химической реакции в зависимости от приложенных внешних нагрузок с использованием модели тензорного химического сродства. Сравниваются результаты, полученные для предложенного коэффицента диффузии, для принятого эмпирического и для постоянного коэффициента, чтобы выяснить, как диффузия под напряжением влияет на распространение фронта химической реакции, исследовать, какой из коэффициентов диффузии оказывает более сильное влияние на процесс распространения фронта химической реакции, и получить значения внешних нагрузок, при которых зависимостью коэффициента диффузии от напряжений можно пренебречь и считать его постоянным.
Постановка задачи: Модель и уравнения
Теория кинетики химических реакций основана на концепции химических потенциалов и химического сродства, которые являются линейной комбинацией химических потенциалов веществ, принимающих участие в реакции. В классической теории химический потенциал является скаляром. Однако этот подход действителен только для газов и жидкостей, но редко для твердых тел. Если мы хотим исследовать фазовый переход в деформируемых твердых материалах, нам нужно тензорное выражение для химического потенциала. Это также значит, что химическое сродство тоже станет тензором. В связи с проблемой, описанной в предыдущем разделе, мы рассмотрим химическую реакцию между твердой и газовой компонентами:
где
и относятся к деформируемым твердым компонентам, а - к газовой компоненте. Мы считаем, что реакция сконцентрирована около фронта реакции, , который разделяет области, занятые и . Реакция проистекает и продолжается вследствие диффузии газовой компоненты сквозь образующуюся . Мы считаем, что весь газ, подходящий к фронту, будет израсходован в химической реакции. Как пример такой реакции, мы можем рассмотреть уравнение, описывающее образование диоксида кремния .Мы считаем, что область, занятая
, является проницаемой для газовой компоненты, которая может свободно диффузировать через твердую компоненту и не вызывать в ней никаких деформаций. Для простоты мы не учитываем эффекты внутреннего трения, влияние реакции на температуру, т.е. мы не реашем задачу теплопроводности, и считаем температуру параметром модели.Было показано, что нормальная компонента тензора химического сродства может быть вычислена согласно следующей формуле (см.(1)):
где
и - тензора напряжений Коши, являются тензорами жесткости упругих компонент, - тензора деформации, - концентрация газа на фронте реакции, - растворимость газовой компоненты в сформированном материале . Также мы относим деформации химических превращений к и считаем, что эти деформации изотропны в объеме, т.е. , где - единичный тензор. Параметр отвечает за отсчетные уровни химических энергий. Если температура дана, является параметром модели.Если мы заменим скалярную величину химического сродства нормальной компонентой тензора химического сродства, скорость на элементе поверхности с нормалью
будет определяться выражением:
где
- скорость прямой химической реакции, является кинетической константой скорости химической реакции. Тогда из баланса массы на фронте реакции, , - нормальная компонента скорости распространения химического фронта, следует, что :
Фронт реакции продвигается, только если
. Тогда из уравнения мы можем найти равновесную концентрацию на фронте реакции:
Вводя эту равновесную концентрацию, мы можем переписать
вблизи химического равновесия как . Следовательно, мы можем переписать и формулу для скорости распространения реакции:
Концентрация газовой компоненты на фронте химической реакции
может быть найденa из второго закона Фика для диффузии:
Мы считаем, что процесс диффузии не зависит от времени. Тогда уравнение принимает вид:
Граничными условиями являются:
Первое условие следует из условия баланса массы на внешней границе тела
, - константа скорости растворения молекул газа в новом материале. Второе условие следует из условия баланса массы на фронте реакции . Определение коэффициента диффузии используется согласно. Коэффициент диффузии может быть подсчитан по следующей формуле: где за обозначено давление на фронте реакции, - температура системы, - объем, занимаемый молекулой, и - температурная постоянная Больцмана. Кроме того, величина , варьируется от 1.1 до 2 в зависимости от температуры. Итак, задача сводится к следующим пунктам: сначала мы находим . Далее, мы находим из задачи диффузии и затем, окончательно, подставляем полученные значения в формулу для нормальной компоненты скорости.Решение для различных видов механических нагрузок
В этом разделе мы представим аналитическое решение задачи для простейшей геометрии. Станем рассматривать трехмерный прямоугольный параллелепипед:
с реакцией, распространяющейся в направлении оси и фронтом реакции, представленным плоскостью . Считаем, что концентрация не зависит от координат и , поэтому , .
Будет изучено два случая механической нагрузки:
первый, перемещения на поверхности тела заданы, и второй, напряжения на поверхности заданы.
Считаем, что нам даны перемещения, которые приложены к телу следующим образом:
Тогда деформации равномерно распределены по всему телу:
Сдвиговые деформации отсутствуют, т.е.
.Считаем, что напряжения по оси
отсутствуют, т.е. имеем дело с плосконапряженной задачей. Тогда из закона Гука можем вычислить оставшиеся напряжения и деформации:
Для региона "+":
Для удобства расчетов с значениями параметров конкретного материала перейдем к модулю Юнга,
, и коэффициенту Пуассона, , и запишем выражение для функции напряжений, входящей в состав выражения для вычисления :
Реакция идет только при
. Следовательно, при отсутствии внешних деформаций и при реакция может идти только при:В этом случае выражение для коэффициента диффузии примет вид :
не зависит от координаты , поэтому уравнение диффузии примет вид:
Решением этого уравнения будет линейная функция
. Из граничных условий можно найти константы и . В итоге, функция концентрации будет выглядеть следующим образом:
Подставляя полученное выражение в уравнение для скорости распространения реакции, окончательно получим:
В случае заданных усилий на поверхности можно найти напряжения
, отвечающие условиям баланса сил и моментов:Чтобы найти напряжения из закона Гука, сделаем предположение, что
, и что .Из-за условий неразрывности мы получим, что
. В этом случае напряжения будут выглядеть следующим образом:
Константы
можно найти из уравнений баланса. Функцию напряжений можно найти, заменив и на соответственно. При постоянном коэффициенте диффузии, проводя вычисления, аналогичные предыдущему пункту, получим, что . Если коэффициент диффузии зависит от напряжений, то в данном случае он принимает следующий вид:
Тогда задача диффузии запишется следующим образом:
Решением этого уравнения будет функция
, с граничными условиями, которые будут выглядеть как:
Окончательно, концентрация будет выглядеть следующим образом:
Скорость в этом случае запишется согласно следующей формуле:
Результаты
Список литературы
1) Freidin, A.B., Vilchevskaya, E. N., Korolev, I. K.: Stress-assist chemical reactions front propagation in deformable solids. International Journal of Engineering Science, 83 (2014), pp. 57-75.
2) Prigogine, I., Defay, R.: Chemical thermodynamics. London: Longmans, Green, 1954.
3) Thermodynamic theory of structure, stability and fluctuation. Wiley Interscience, London, 1971, pg. 50.
4) Ming-Tzer Lin.: Stress effects and oxidant diffusion in the planar oxidation. (1999). Thesis and Dissertation, Lehigh University. Paper 594
5) B.E.Deal, A.S. Grove: General relationship for the thermal oxisation of Silicon. Journal of Applied Physics, vol.36(12), December 1965.